Так как известно, что основой кристаллических призм зубной эмали является
фаза состава
Саю±п(Р04)б±п(0Н)2-х,
причём существуют различия в строении её кри
сталлической структуры и текстуры, мы предположили, что каждый уровень рези
стентности имеет свою кристалло-химическую формулу, отражающую строение гид
роксиапатита, присущую только для данного уровня резистентности. Для подтвер
ждения или опровержения этой гипотезы образцы интактной эмали лиц с различным
уровнем устойчивости к кариесу были изучены с помощью метода РФА. В результа
те проведённого исследования выяснилось, что приповерхностный слой эмали тол
щиной « 1,2-1,5 мм интактных зубов, удаленных по ортодонтическим показаниям у
лиц с различным уровнем резистентности к кариесу, содержит кристаллиты со
структурой, близкой к структуре гидроксиапатита
Саю(Р04)б(0Н)2
(ASTM, карточка
№9-432). Дифрактограммы зубов лиц с различным уровнем резистентности, а также
дифрактограмма стандартного гидроксиапатита представлены на рисунках 13-17.
Как следует из рисунков 13-16, наиболее выражены на дифрактограммах пики, соот
ветствующие отражениям от плоскостей (002) и (004) и отсутствуют отражения от
плоскостей, ориентированных относительно кристаллографической оси
L
под углом
свыше 30°, то есть в поверхностном слое эмали зубов у лиц с высоким, средним,
низким и очень низким уровнями резистентности наблюдается выраженная текстура
- неравномерная ориентация кристаллов. Наличие выраженной текстуры в сочета
нии с кривизной поверхности образцов не позволило определить количественное
содержание данной кристаллической фазы в образце.
При сравнении дифракционных пиков от образцов эмали зубов лиц с различ
ным уровнем резистентности к кариесу и стандартного гидроксиапатита (таблица 8),
установлено, что соотношение интенсивностей различных пиков имеет близкий ха
рактер для всех четырёх уровней резистентности к кариесу и несколько отличается
от стандарта. Так, линии (200), (002), (202), (213) и (004) для эмали зубов относи
тельно слабее, а линии (210), (300), (310) - интенсивнее, чем у стандарта, при этом
расхождение для некоторых линий по высоте составляет 30-40%.
Анализ дифрактограмм, полученных от образцов эмали зубов лиц со средним,
низким и очень низким уровнем резистентности не показал существенных различий
в интенсивности пиков, по сравнению с высоким уровнем резистентности.
Более детальный анализ таблицы 8 показывает, что хотя интенсивности ди
фракционных пиков для образцов эмали высокого, среднего и очень низкого уровней
резистентности близки между собой, для эмали лиц с низким уровнем устойчивости
81
